摄影电影;光学设备的制造及其处理,应用技术
  • 硅基光子学在低成本大规模光电子集成方面有着很好的前景,其集成度将会和集成电路一样,扮演着越来越重要的角色,波导在硅基光子通讯领域是最核心的组成部分,波导的密度在硅基光子芯片上有着至关重要的影响。寻求高密度,同时对其他性能(如串扰)影响很小的高密度波导集成仍然是一极具挑战性的课题。技术背景CMOS兼...
  • 本发明涉及安装在诸如复印机、打印机、传真机或具有这些机器的多种功能的多功能机等的图像形成设备中的定影装置(图像加热装置)。作为使用在电子照相式图像形成设备中的定影装置(图像加热装置),已知膜(带)加热式的定影装置。具体地,定影装置包括:筒状的膜,其具有高的耐热性;陶瓷加热器,其与膜的内表面...
  • 本发明涉及安装在诸如复印机、打印机、传真机或具有这些机器的多种功能的多功能机等的图像形成设备中的定影装置(图像加热装置)。作为安装在图像形成设备中的定影装置(图像加热装置),已知膜(带)加热式定影装置。具体地,加压辊(第二可转动构件)压接到诸如内置有陶瓷加热器的柔性筒状定影膜等的可转动构件...
  • 本发明属于打印成像,尤其是涉及一种双色双面激光打印成像装置。一般的办公设备(打印机、传真机、复印机)均是黑白打印,颜色单一,不能满足多色打印的需求,后来的彩色打印机,一般为CMYK彩色体系,采用C青色,M洋红色,Y黄色,K黑色,四色进行配色打印,这样确实能够打印出较为丰富的颜色,但...
  • 本发明涉及一种图像形成装置,尤其是涉及一种即便不增加任何单元也能够在开门时避免感光体曝光的图像形成装置。对于现有的打印机而言,在为了进行卡纸处理而开门时,通常会使感光体的一部分暴露于光线中。一般情况下,用户开门的场景有两种,一种是卡纸发生时,另一种是无图像形成任务状态开门查看时。为了应对该...
  • 本发明涉及激光直写光刻,具体是一种用于大倍率光刻设备光学系统的辅助DMD调平装置。DMD(DigitalMicromirrorDevice,数字微镜器件)是PCB光刻设备光学系统的重要组成部分,光学系统在工作过程中,DMD通过微镜的翻转将照明系统的输出光反射进入成像系统...
  • 本发明涉及一种组合物,其用于在使用光致抗蚀剂来制造在对基板实施蚀刻处理而形成元件、电路等时使用的掩模的工序中除去附着于基板的边缘、背面的光致抗蚀剂的用途。本申请基于2017年1月11日在日本提出申请的日本特愿2017-002539号要求优先权,并将其内容援引于此。在半导体装置(晶体管、电容...
  • 本发明涉及印刷,具体地说,是涉及一种阳图型PS版用显影液及其制备方法。在印刷中,显影是制作版材的关键步骤,是影响最终制版的质量和稳定性,很多的制版问题常出现在显影工艺过程中。显影原理是用显影液将已经曝光并发生分解的感光层(阳图PS版)部分溶解,使印刷版形成图像和非图像两个部...
  • 本发明属于印刷线路板(PCB)行业无掩模光刻,具体涉及一种用于无掩模光刻扫描的分布式曝光方法。无掩膜曝光技术,不需要制作掩膜,所以可降低成本和缩短曝光时间,是下一代平行光曝光设备的主要发展方向,将有逐步取代掩膜曝光的趋势。但目前主要问题在于如何提高曝光效率和图像处理方面。传统的无掩...
  • 本发明涉及直写光刻机的光学系统设计,具体是一种直写光刻机中高利用率高均匀度的LED照明系统。光刻机是用于在衬底表面上印刷构图的设备,直写光刻机区别于传统光刻机,其通过可独立寻址和控制的像素阵列,即DMD数字掩膜板,以一定的放大倍率投影到光敏感元件衬底上产生特征的构图,从而省...
  • 本发明涉及无掩模光刻,特别是涉及一种无掩模光刻系统及其曝光方法。相比于掩模光刻技术,无掩模光刻技术在高精度HDI(高密度互连,HighDensityInterconnector)的多层线路板领域、平板显示器领域和集成电路封装领域,可以省去昂贵的掩模板,直接将计算机设计产生的所需...
  • 本发明涉及一种提高双面光刻一致性的方法、系统和存储介质,属于光电。双面对准曝光技术的主要原理是在工件一个表面进行光刻,制备出图形,然后再对另一面进行光刻步骤,在曝光对准时对上下同时对准,以满足上下表面定位标记准确套合。该种曝光机采用双面对准,而最终的曝光方式与传统的单面曝光机相同,...
  • 本发明涉及直写光刻设备,具体涉及一种基于DMD的光刻机3D灰度图像曝光优化方法。3D灰度曝光技术是近年来光刻领域研究的热点,由于需要制作出具有连续表面微结构的复杂器件,灰度曝光一般以具有一定灰阶的灰度掩膜板为基础,并且灰度等级越高,器件表面的微结构越平滑。具有灰度的掩膜板制作非常复...
  • 本发明属于光刻机参数协同优化设计领域,尤其涉及一种光刻机照明系统相干因子的在线测量方法。曝光系统是光刻机的关键部分,该系统主要由照明系统和投影系统组成。照明系统相干因子的改变会导致整个硅片面上刻蚀线宽的改变,此外,还会引起投影光刻系统焦深和成像对比度的改变。相干因子定义为物镜入瞳面上光源像...
  • 本发明涉及数据的曝光技术,以及利用不同旋转方向的旋转镜进行曝光的曝光技术。激光直接成像(LaserDirectImaging、LDI)是一种无光掩模光刻(non-maskphotolithography)技术。有别于传统需要光掩模的制成方式,使用无光掩模光刻的方式来制作印刷电路板(p...
  • 本发明涉及一种DMD结构XY多轴可移动光路直写曝光机,属于直写曝光。PCB(印刷电路板)是电子元器件的支撑体,同时也是电子元器件电气连接的载体。常见的PCB生产设备有传统的曝光机、多棱镜结构激光直写曝光机、DMD结构激光直写曝光机等。激光直写曝光机可以直接将图像在PCB板上成像,相...
  • 本发明涉及化工制品领域技术,尤其是指一种线路板感光胶树酯胶液和感光干膜及制备方法。信息、通讯产业的不断进步带动了微电子业的高速发展,印制电路板(PCB)的在移动手机、笔记本电脑、液晶显示等诸多领域得到了更加广泛的应用。在PCB线路图形制造过程中所用的菲林片需要用贴保护膜的方式来保护菲林片,...
  • 本发明涉及包含聚对羟基苯乙烯类氧杂环丁烷树脂作为成膜树脂的光刻胶组合物。该光刻胶组合物适用于大规模集成电路的先进封装(硅片及封装WLP)和微电子机械系统(MEMS,Micro-ElectronicMachineSystem)领域。光刻胶是在紫外光、准分子激光、电子束、离子束、X射线等光...
  • 本发明涉及着色感光性树脂组合物、利用其制造的滤色器和图像显示装置。滤色器广泛用于摄像元件、液晶显示装置这样的图像显示装置等中,因此其应用范围在急速地扩大。在彩色液晶显示装置、摄像元件等中使用的滤色器通常通过如下制造:在形成了黑色矩阵图案的基板上采用旋涂而均匀地涂布含有与红色、绿色和青色的各...
  • 本发明涉及3D投影,更具体地说,涉及一种笔记本显示屏3D投影的方法。利用现有技术,3D投影仍然存在各种局限性。3D电影都是在平面上进行投影,通过人眼的视距差来造成立体感。目前已有一种空气投影和交互技术,这是显示技术上的一个里程碑,它可以在气流形成的墙上投影出具有交互功能的图像,将图...
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